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美国FUTURREX光刻胶常见问题

 

美国FUTURREX光刻胶常见客户问题回馈:

1.我们是LED制造商,麻烦推荐几款可以用于离子蚀刻和Lift-off工艺的光刻胶。
A 据我所知,Futurrex 有几款胶很合适,NR7-1500P NR7-3000P是专门为离子蚀刻
设计的,NR9-3000PY可以用于Lift-off上的应用。

2.请问有没有可以替代goodpr1518,Micropure去胶液和goodpr显影液的产品?
A 美国光刻胶,Futurrex 正胶PR1-2000A , 去胶液RR4,和显影液RD6可以解决以上问题。

3.你们是否有可以替代Shipley S1805的用于DVD的应用产品?
A 我们建议使用Futurrex PR1-500A , 它有几个优点:比较好的解析度,比较好的线宽控制,
反射比较少,不需要HMDS,RIE后去除容易等~

4. 求助,耐高温的光阻是那一种?
A Futurrex, NR7 serious(负光阻)Orpr1 serious(正光阻),再经过HMCTS silyiation process,可以达到耐高温200度,PSPI透明polyimide,可耐高温250度以上。

5.厚膜光阻在镀金应用上,用哪一种比较合适和理想?
A Futurrex , NR4-8000P比干膜,和其他市面上的湿膜更加适合,和理想。

6.请教LIFT-OFF制程哪一种光阻最适合?
A 可以考虑使用Futurrex ,正型光阻PR1,负型光阻用NR1&NR7,它们都可以耐高温180度,完全可以取代一般制作PATTERN的光阻。

7.请问,那位专家知道,RIE Mask,用什么光阻比较好?
A 正型光阻用PR1系列,负型光阻使用NR5,两种都可以耐高温180度。

8.一般厚膜制程中,哪一种光阻最合适?
A NR9-8000P有很高的深宽比(超过4:1),适合一般厚膜以及,MEMS产品的高需求。

9.在DEEP RIE和MASK 可以使用NRP9-8000P吗?
A 最好不使用,因为使用NR5-8000更加理想和适合。

10.我们是OLED,我们有一种制程上需要一层永久的SPACER,那种光阻最适合?
A 有一种胶很适合,美国Futurrex 生产的NR1-3000PY and和 NR1-6000PY,都适合在OLED制程中做永久spacers

11.请教~有没有同时可以满足RIE process 和Lift-off process的光阻,谢谢!
A 我们推荐使用Futurrex NR1-300PY来满足以上工艺的需求。

12.Futurrex光刻胶里,有比较容易去除的负光阻吗?
A NR9-系列很容易去除,可以满足去胶需要。

13.我们目前用干膜做窄板,解析度不够,希望找到好的替代光阻?
A NR9-8000因为有很高的AR比例,最适合取代,在凸块的应用上也有很大的好处。
14.传统的Color filter 制程,每个颜色的烘烤时间要2-3个小时,有没有更快的方法制作Coior filter?
A 用于Silylation制程------烘烤时间只需要2分钟,同时光阻不需要Reflow, 颜色也不会老化改变,只需要在Filter上面加热溶解PR1-2000S光阻,Microlenses就能形成!

15.请问有专门为平坦化提供材料的公司吗?
A 美国Futurrex公司,专门生产应用化学品的,可以为平坦化的材料提供PC3-6000和PC4-1000都是为平坦化用途设计,台湾企业用的比较多。

16.我需要一种可用于钢板印刷的方式来涂布PROTECTIVE COATING,那种最合适??
A 推荐美国Futurrex,PC4-10000。

17.腊是用来固定芯片的,但很难清洗干净,哪里有可以替代的产品介绍下,谢谢?
A 我们公司是使用Futurrex PC3-6000,可以替代的,而且去除比较容易,你可以试用下。

18.请问有没有100微米厚衬底为镀镍硅并可用与MEMS应用的光刻胶吗?
A NR4-8000P可以做到140微米的厚度,并在镀镍的衬底上不会出现难去胶的问题,如果是其他非镀镍衬底NR9-8000P是最佳的选择。

19.谁有用在光波导图案的光刻胶?是否可以形成角度为30度的侧壁?
A 你必须实现通过逐步透光来实现掩膜图案棱的印刷,NR4-8000P是专门为光波导图案应用进行设计的产品。

20.有没有光刻胶PC3-6000的资料吗?
A PC3-6000并不是光刻胶,它是用在chip on glass 上的胶粘剂。

21.是否有Wax替代品?
A PC3-6000可替代Wax做晶片和玻璃的固定,比较容易去除掉。

22.贵公司是否有粘接硅衬底和砷化镓衬底的材料?
A 有,IC1-200就是

23.请问是否有不用HMDS步骤的正性光刻胶?
A 美国Futurrex 整个系列的光刻胶都不需要HMDS步骤,都可以简化。

24.一般电话咨询光刻胶,我们应该向客户咨询哪些资料?
A 1 需要知道要涂在什么材质上,2 还有要知道需要做的膜厚,3 还要知道光刻胶的分辨率 4还有需要正胶还是负胶,5 需要国产还是进口的

25. 进口光刻胶有哪几种技术比较先进?
A 美国Futurrex光刻胶 美国goodprandotherpr光刻胶 美国诺斯系统光刻胶 韩国东进光刻胶

26.国内有没有代理进口美国光刻胶的公司?
A 深圳德同光电材料有限公司,专业代理美国Futurrex光刻胶,在光刻胶行业里已经有了20年的历史,在光刻胶行业排名世界第四名。德同光电是国内唯一代理商。

27.想找一款膜厚在120um,的光刻胶,有什么光刻胶可以做到啊!
A 以前有使用过美国有款光刻胶可以达到Futurrex NR-20000P ,你试用一下,在中国深圳有个代理商,你可以在百度上搜索一下。

28.有没有了解一款美国Futurrex NR9-250P的光刻胶,请教下?
A 这是一款负性光刻胶,湿法蚀刻使用的,附着力很好,耐100度的温度,国内也有可以代理的公司,Futurrex光刻胶是世界第4大的电子化学品制造商,在光刻胶的领域有着不错的声誉,在太阳能光伏,和LED半导体行业都有不错的市场占有率。

29.想找款膜厚的产品,进行蚀刻,有什么好推荐?
A 厚膜应用(thick film applications),主要是指高纵横比(Aspect ratios),高分辨率,高反差,有几款产品向你推荐一下《NR4-8000P,NR2-20000P,NR5-8000,这些产品都需要用到边胶清洗液》

30.想请教国产光刻胶不能达到膜厚要求,进口的有没有比较好的光刻胶啊?
A 美国goodpr光刻胶,或者美国Futurrex光刻胶都可以啊!goodpr是大陆比较多公司采用的,
但是Futurrex 光刻胶在国外是比较有名气的,包括很多大型企业都有用,膜厚做的也
比较厚从18um-200um都 可以做到,看你对工艺的要求了。

 
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