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接触式光刻机

 

在科研领域,我们常见的光刻设备是接触式光刻机,接触式光刻机的主要特点是:

1>曝光时掩模板和衬底之间接触或保持一个很小间隙,曝光方式分为真空接触、硬接触、软接触和接近式接触;

2>采用光学显微镜进行对准;

3>掩模板图形和光刻图形为1:1比例;

4>可进行双面对准;

5>光刻胶厚度没有限制。

 
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