KMPR

产品特性

负性光刻胶，高深款比：>5:1，高分辨率，垂直性好。

可用TMAH，KOH或者PGMEA显影，易去胶，耐干法刻蚀优异的金属黏附性和电镀膜液稳定性，金属黏附性和电镀膜液稳定性较好。

厚度范围：5-115μm

光源：Near UV (350-400nm) 推荐i-Line，

也可用于E-beam，X-ray