PMMA/MMA

产品特性：

MICROCHEM PMMA/MMA，正性电子束光刻胶950K495K两种分子量，高分辨率，线宽<0.1µm与基底粘附性好。

光源E-beam，X-ray&deep UV imaging

胶厚50-5000nm

应用：

适用于电子束光刻，多层T-Gate剥离，晶圆减薄等。

T-gate resulting from PMMA/Copolymer bilayer resist stack.