利用聚焦激光束直接在涂覆有光刻胶的衬底上描绘图形的光刻技术。通常采用旋转反射镜阵列来实现大量激光束同时扫描的功能，因此对于分辨率要求不高的情况，可以实现高速的无掩模光刻，是掩模版的主要制造手段之一。其分辨率极限根据激光成像原理不同，由500nm到100nm以下。由于激光良好的调焦功能，激光直写也是最常用的灰度光刻的技术手段。