利用计算机输入的地址和图形数据，控制聚焦电子束在涂敷有电子束光刻胶的衬底上直写曝光。其采用的是逐点扫描的方式，让被扫描区域内的光刻胶进行曝光，以实现光刻的目的。目前世界上最细线条的光刻图案就是该技术完成的，可达到2nm。